Nitrogen Trifluorida (NF3) Gas Kemurnian Tinggi
Informasi Dasar
| KAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Bahan apa ini?
Nitrogen trifluorida (NF3) adalah gas yang tidak berwarna dan tidak berbau pada suhu kamar dan tekanan atmosfer. Itu bisa dicairkan di bawah tekanan sedang. NF3 stabil dalam kondisi normal dan tidak mudah terurai. Namun dapat terurai bila terkena suhu tinggi atau dengan adanya katalis tertentu. NF3 memiliki potensi pemanasan global (GWP) yang tinggi ketika dilepaskan ke atmosfer.
Di mana menggunakan bahan ini?
Bahan pembersih dalam industri elektronik: NF3 banyak digunakan sebagai bahan pembersih untuk menghilangkan sisa kontaminan, seperti oksida, dari permukaan semikonduktor, panel layar plasma (PDP), dan komponen elektronik lainnya. Ini dapat membersihkan permukaan ini secara efektif tanpa merusaknya.
Gas etsa dalam fabrikasi semikonduktor: NF3 digunakan sebagai gas etsa dalam proses pembuatan semikonduktor. Hal ini sangat efektif dalam mengetsa silikon dioksida (SiO2) dan silikon nitrida (Si3N4), yang merupakan bahan umum yang digunakan dalam pembuatan sirkuit terpadu.
Produksi senyawa fluor dengan kemurnian tinggi: NF3 adalah sumber fluor yang berharga untuk produksi berbagai senyawa yang mengandung fluor. Ini digunakan sebagai prekursor dalam produksi fluoropolimer, fluorokarbon, dan bahan kimia khusus.
Pembangkitan plasma dalam pembuatan layar panel datar: NF3 digunakan bersama dengan gas lain untuk membuat plasma dalam produksi layar panel datar, seperti layar kristal cair (LCD) dan PDP. Plasma sangat penting dalam proses deposisi dan etsa selama fabrikasi panel.
Perlu diperhatikan bahwa penerapan dan peraturan khusus untuk penggunaan bahan/produk ini mungkin berbeda-beda di setiap negara, industri, dan tujuan. Selalu ikuti pedoman keselamatan dan konsultasikan dengan ahlinya sebelum menggunakan bahan/produk ini dalam aplikasi apa pun.
